涉及台积电2nm窃密案, 传TEL社长将于9月拜会台积电高层

8月19日消息，据台媒报道，针对台积电近期爆发的2nm制程泄密案，涉案的日本半导体设备大厂Tokyo Electron（TEL）社长河合利树很可能将会在今年9月访台，并于SEMICON Taiwan 期间专程拜会台积电高层。

根据此前的报道，台积电2nm制程泄密案涉案的2名台积电员工已经被开除，涉及其中的一名TEL员工也已经被开除。这三人由于涉嫌违反中国台湾地区的《安全法》遭羁押禁见，全案已进入司法调查。因此，台积电和TEL都无法对此进行回应。

不过市场消息指出，台积电可能在取得检方相关搜证证据后，会向TEL要求赔偿。

中国台湾地区最高检察署检察总长邢泰钊表示，针对厂商提告违反营业秘密案，从提出到定案通常得费时长达半年，因为检察机关对国安事件的侦查没有系统性训练，但两者之间却是息息相关。然而，营业秘密与地区安全息息相关，从2022年至2025年6月，中国台湾涉及营业秘密法不起诉处分的比例高达70%，关键在于厂商搜证数据不齐全，不过在那剩余30%的起诉案中，高达68.7%是判决有罪的，代表100件中，约有2成会被定罪。

邢泰钊还表示，相关厂商、司法机关、检察机关对办理营业秘密案件的专业必须加强，才能守护国家重要技术及安全。国科会将14nm以下制程的IC 制造技术纳入地区核心关键技术清单，因此该机构表示，若窃取核心关键技术营业秘密，依法将由检调侦办，并加重刑责最高达12年有期徒刑、新台币1亿元罚金。